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2023年广西公务员考试常识积累:光刻技术

发布:2022-08-17 09:05:44 字号: | | 我要提问我要提问
      行测常识判断考点范围很广,一般包括政治、法律、经济、人文、地理、科技、生活等方面,需要小伙伴们长时间不间断的积累。今天广西公务员考试网给大家带来的常识相关考点是“光刻技术?”。

  光刻技术是指在光照作用下,借助光致抗蚀剂(又名光刻胶)将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。其主要过程为:首先紫外光通过掩膜版照射到附有一层光刻胶薄膜的基片表面,引起曝光区域的光刻胶发生化学反应,再通过显影技术溶解去除曝光区域或未曝光区域的光刻胶(前者称正性光刻胶,后者称负性光刻胶),使掩膜版上的图形被复制到光刻胶薄膜上;最后利用刻蚀技术将图形转移到基片上。

  1.光刻技术原理

  光刻就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上得图形复印到薄片上,从而使薄片具有电子线路图的作用。这就是光刻的作用,类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上,而光刻刻的不是照片,而是电路图和其他电子元件。

  光刻技术是一种精密的微细加工技术。常规光刻技术是采用波长为2000~4500埃的紫外光作为图像信息载体,以光致抗光刻技术蚀剂为中间(图像记录)媒介实现图形的变换、转移和处理,最终把图像信息传递到晶片(主要指硅片)或介质层上的一种工艺。

  2.光刻技术的特点

  光刻技术特点是:采用像面分割原理,以覆盖最大芯片面积的单次曝光区作为最小成像单元,从而为获得高分辨率的光学系统创造条件。

  3.光刻技术的应用

  常规光刻技术是采用波长为2000~4500埃的紫外光作为图像信息载体,以光致抗蚀剂为中间(图像记录)媒介实现图形的变换、转移和处理,最终把图像信息传递到晶片(主要指硅片)或介质层上的一种工艺。在广义上,它包括光复印和刻蚀工艺两个主要方面。

  1)光复印工艺:经曝光系统将预制在掩模版上的器件或电路图形按所要求的位置,精确传递到预涂在晶片表面或介质层上的光致抗蚀剂薄层上。

  2)刻蚀工艺:利用化学或物理方法,将抗蚀剂薄层未掩蔽的晶片表面或介质层除去,从而在晶片表面或介质层上获得与抗蚀剂薄层图形完全一致的图形。集成电路各功能层是立体重叠的,因而光刻工艺总是多次反复进行。例如,大规模集成电路要经过约10次光刻才能完成各层图形的全部传递。

  在狭义上,光刻工艺仅指光复印工艺。

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  例题:   

   1、传统的光刻技术中,镜头与光刻胶之间的介质是空气,而浸入式技术是将空气介质换成液体,得到合适波长的光,以提高成像分辨率,以下说法错误的是:

  A. 液体局部温度起伏会引起成像质量恶化

  B. 为了减少液体对光线的吸收,液层厚度不能太大

  C. 以纯水为介质时,可以选取任意波长紫外光为光源

  D. 可以注入高折射率的液体以得到更高频率的光,提高成像分辨率

  正确答案是 C

  第一步,本题考查科技常识并选错误项。

  第二步,水作溶剂时,最低波长极限是210nm,所以一般吸收都在远紫外区,因此以纯水为介质时,不能够选取任意波长紫外光为光源。C项错误,本题为选非题。C项符合题意。

  因此,选择C选项。
 
 
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